hmds真空鍍膜機,光刻hmds鍍膜烤箱的用途:hmds真空鍍膜機通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
hmds真空鍍膜機,光刻hmds鍍膜烤箱的用途:
hmds真空鍍膜機通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
hmds真空鍍膜機,光刻hmds鍍膜烤箱的特點:
1、安全性高、更加環(huán)保,HMDS是有毒化學藥品,人吸入后會出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激、呼吸道等,由于整個過程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機,所以也不會對環(huán)境造成污染。
2、效率高,液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達8盒(4寸)的晶片
3、預處理性能好,由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮氣置換再進行的HMDS處理,所以不會有塵埃的干擾,再者,由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進行,晶片在容器里先經(jīng)過100℃-160℃的去水烘烤,再接著進行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機會大大降低,所以有著更好的處理效果。
4、均勻性好,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。
5、更加智能化,智能型的程式設定,一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。當HMDS液位過低時發(fā)出報警提示。
的技術(shù)規(guī)格:
1.設備名稱 | HMDS預處理系統(tǒng) |
2、設備型號 | JS-HMDS90 |
3、設備主要技術(shù)參數(shù) | |
3.1 工作室尺寸 | 450×450×450mm(可修改) |
3.2 產(chǎn)品架 | 2層 |
3.3 溫度范圍 | RT+10-250℃ |
3.4 溫度分辨率 | 0.1℃ |
3.5 溫度波動度 | <±1℃ |
3.6 真空度 | ≤133pa |
3.7 潔凈度 | class 100,設備采用無塵材料,適用100級光刻間凈化環(huán)境 |
3.8電源及總功率 | AC 220V±10% 50HZ 總功率 約2.5KW |
3.9 控制儀表 | 人機界面 |
3.10顯示分辨率 | 時間:0.1min |
3.11真空泵 | 油泵或進口干泵 |