ITO無氧化烤箱，防氧化退火爐簡介：

  ITO薄膜是一種n型半導體材料，具有高的導電率、高的可見光透過率、高的機械硬度和良好的化學穩(wěn)定性。ITO制備工藝中退火是非常重要的工藝步驟，對烤箱的溫度、含氧量都有明確的要求。

ITO無氧化烤箱，防氧化退火爐的必要性：

1、在ITO中，Sn是以替位參雜的方式，取代In出現(xiàn)在In2O3晶格中，形成氧化銦錫置換固溶體隨著退火溫度的升高，峰強增強，ITO晶粒擇優(yōu)生長，晶粒尺寸隨溫度的上升而變大。

2、隨著退火溫度的升高，ITO薄膜的微觀結(jié)構(gòu)得到改善，表面形貌均一穩(wěn)定，但當退火溫度超過某一界*，ITO顆粒大小不一，形狀各異，小顆粒團聚現(xiàn)象嚴重，薄膜的表面形貌遭到破壞。

3、薄膜電導率隨退火溫度的上升呈先上升后下降的變化。上升階段，載流子濃度和遷移率共同影響電導率；下降階段，遷移率的降低對電導率的減小起到主要作用。

ITO無氧化烤箱技術(shù)指標：                    

內(nèi)腔尺寸：W600mm×D600mm×H600mm（可定做）

材質(zhì)：SUS304不銹鋼
溫度范圍：RT+10-450℃，使用溫度≤400℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動度：＜±0.5℃
溫度均勻度：≤±1.5%
潔凈度：class 100，設(shè)備采用無塵材料，適用100級光刻間凈化環(huán)境
電源及總功率：AC 380V±10% / 50HZ       總功率約21.0KW    
升溫速度：8℃/min，（空箱測試）可自定義
降溫速度：約3℃/min（空箱測試）可自定義
氧含量分析儀：≤ 100ppm