圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備工藝原理：

    光刻圖形反轉(zhuǎn)是一種特殊的工藝，用于制作?半導(dǎo)體器件。在曝光結(jié)束后，光刻膠中的圖像與想要得到的圖像是相反的，即曝光區(qū)域在顯影后會(huì)形成孔洞而不是島區(qū)。這種工藝主要用于制作孔洞結(jié)構(gòu)，通過(guò)改變曝光區(qū)域和非曝光區(qū)域的相對(duì)分解率來(lái)實(shí)現(xiàn)。

圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備的應(yīng)用：

    光刻圖形反轉(zhuǎn)工藝主要用于剝離過(guò)程，特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過(guò)底切側(cè)壁形態(tài)，可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)壁上形成連續(xù)薄膜，有助于獲得干凈的剝離光刻膠結(jié)構(gòu)。

光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備的性能：